總部位於台南，擁有
座工廠 與
座設計中心。
資本額約 新台幣
億元，2023 年營收突破
億元。
員工人數超過
人（2023）。
1990
2006
2018
1990
2006
2018
| 製程與專業項目 | 人力資源 | 年資 |
|---|---|---|
|
曝光機 |
4 |
20 年 |
|
Track |
3 |
15–20 年 |
|
薄膜/蝕刻 |
3 |
15–20 年 |
|
CMP |
3 |
10–20 年 |
|
機構設計 |
5 |
10–30 年 |
|
電控軟體 |
4 |
10–20 年 |
|
冷凍空調 |
2 |
20–30 年（技師） |
|
光學 |
2 |
10–20 年 |
|
專業人力總結 |
24 |
|
我們以系統化的步驟，確保每一個細節都符合半導體與光電產業的最高標準。
以客戶需求為核心，整合自動化、AI 與光學系統設計，並提供完整的解決方案規劃。
透過自有工廠進行精密製造與組裝，涵蓋金屬加工、焊接、塗裝與製程設備整合。
提供即時的售後服務與技術支援，確保客戶設備穩定運作，並持續優化使用效能。
Eco
Clean
Smart
節能空調機
節能空調機
節能冰機
節能熱回收系統
截至 2025 年，科斯邁節能解決方案已成功安裝超過
台。
| 年份 | 機型 | 數量 |
|---|---|---|
|
2023 |
G6-Eco-tcon |
23 |
|
2023 |
G8 Eco-tcon |
4 |
|
2023 |
G8 Eco-tcon+ |
1 |
|
2024 |
G8 Eco-tcon+ |
10 |
|
2024 |
G6 Eco-tcon +A |
3 |
|
2024 |
G6 Eco-tcon |
2 |
|
2024 |
Semi 曝光機（UT）Eco-tcon |
38 |
|
2024 |
Semi 曝光機（UT）Eco-tcon |
1 |
|
2024 |
G6 Eco-tcon |
1 |
|
2024 |
G6 Eco-tcon+ |
1 |
|
2024 |
G6 e-RFU |
1 |
|
2024 |
TGV Laser e-TCU |
1 |
|
2024 |
G8 Eco-tcon |
2 |
|
2024 |
G6 DryEco-cooling |
1 |
|
2024 |
G7 （曝光機）（HHT）Eco-tcon+ |
2 |
|
2024 |
G8 Eco-tcon+ |
1 |
|
2024 |
G6 Dry Eco-cooling |
12 |
|
2025 |
G8 Eco-tcon +A |
8 |
|
2025 |
TGV Laser e-TCU |
1 |
|
2025 |
Semi 曝光機（UT）Eco-tcon |
8 |
|
2025 |
Water Track THC Eco-tcon+ |
1 |
|
2025 |
G6 Eco-tcon+ |
4 |
|
2025 |
G8 HHT Eco-tcon+ |
2 |
|
2025 |
曝光機 C社 Eco-tcon+ |
1 |
|
2025 |
曝光機 C社 Eco-cooling+ |
1 |
|
2025 |
G6 TTP Eco-tcon |
1 |
|
2025 |
G6 CVD Eco-cooling |
2 |
|
2025 |
Wafer Track eco-cooling |
1 |
|
|
2023/6 ~ 總結 |
134 |
適用領域 :
· 半導體製造與面板製造曝光機
適用機型 :
· 日系 : C社, H社, N社, O社
· 美系 : U社, S社
功能成效 :
· 節能 > 60%
· 減少維修時間與成本
· 避免無預期當機
適用領域 :
· 半導體製造與面板製造
Track Coater
功能成效 :
· 節能 > 60%
· 減少維修與成本
· 避免無預期當機
適用於半導體製造與光電面板製造的真空機台應用的機型：
| 廠商 | 科斯邁 Eco Cooling |
|---|---|
|
導入實績 |
121台（2023/3~）* |
|
系統專利 |
4篇（2023/3~）* |
|
改造方式 |
外掛式專利* |
|
標配功能：一鍵復歸 |
原系統與節能系統，快速切換 |
|
標配功能：控溫系統 |
追溫系統取代加熱器 |
|
選配功能：Recipe Control |
有，可對應多道製程 |
|
維護成本 |
無耗材 |
|
壓縮機 & 加熱器 節能效益 |
~100% |
OVEN 熱回收設備：
將 OVEN 設備 Heat Exhaust 管路的高溫熱能導入熱回收設備,提高進 OVEN 的入風溫度，而減少 Oven 本身 Heater 的加熱功率，降低 OVEN 用電量，達到「節電」效果
Oven 入氣需由室溫加熱到製程溫度 -高耗能
Eco Heating 在不耗能的狀況下提高Oven入氣溫度，大幅降低耗能
曝光機、Coater
真空機台 Descum
傳統機型 與 e-TCU footprint 比較：
傳統機型 :
800 x 1200 x 1700 (mm)
節能機型 :
520 x 800 x 1200 (mm)
e-TCU 優勢
· footprint 只有傳統機型 1/2 以下
· 能耗只有傳統機型 20%
· 節省維修成本
適用於半導體製造與光電面板製造的真空機台應用的機型：
產品應用：
· 曝光設備
· 蝕刻設備
· CVD 設備
產品特點：
· 多項專利技術
· 節能運行設計
· 精準溫度控制
· 模組化設計，維護與擴充方便
· 多重保護設計
AMC 去除墻
Eco-sct
DUC
潔淨室建置
傳統機型 與 e-TCU footprint 比較：
用途說明：
安裝於半導體設備之外氣空調箱(MAU)內的用於半導體設備的過濾牆及過濾裝置
特性說明：
1. 泡棉濾網設計，比起傳統摺景式壓損更低可讓風機節能及壽命較高等優勢
2. 比起傳統摺景式濾網廢棄物更少且更易於更換
適用於 :
· 半導體曝光機
功能 :
AMC 去除 + 溫度控制
應用於：光電面板製造、半導體製造
有效去除設備內部的酸、鹼、有機等汙染物質，使設備內部環境潔淨無汙染
· 設備尺寸：675 x 550 x 1150mm
· 供給風量：10 CMM
· 客製化且有效的空氣汙染淨化機制
· 環保且經濟的濾材使用
· 過濾濾效 >90%
· 一體化、移動便利設計
· 科斯邁專利產品
適用於：
· 改善設備內部的製程汙染
· 改善環境對設備產生的汙染
建置案例：1K~100K 潔淨廠房於日系設備商與國內設備商及加工廠
系統整合
Particle / Power 監控系統
降低超純水導電度
Inline Particle / Power Monitor
Smart Equipment Monitor Box
智慧機台監控箱 30*40*50 cm
應用 :
Wafer and Panel factory Equipment…etc.
安裝區域：
工廠/廠房/廠務/設備端
| 樣式 | By equipment | By channel |
|---|---|---|
|
切換 |
4 PC ㇐次切換 |
可單 PC 切換 |
|
配管 |
簡單 |
複雜 |
|
E Flow small leak |
1.2 Lpm |
1.2 ~ 5 Lpm |
|
DIW Small leak |
5 Lpm |
5 Lpm |
|
電阻值規格 |
0.2 – 1.0 MΩ・cm |
0.2 – 1.0 MΩ・cm |
應用於：
半導體製造
目的：
先進封裝製程中,防止因DIW靜電過高,進而影響良率
無論您正在評估設備升級、導入節能系統，或是尋求客製化的製程改善方案，科斯邁團隊都樂意與您深入交流。我們提供技術說明、效益評估與現場諮詢服務，協助您找出最符合需求的產品組合。
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